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石垣 功; 須郷 高信; 高山 隆*; 岡田 紀夫*; 岡本 次郎; 町 末男
J.Appl.Polym.Sci., 27, p.1043 - 1051, 1982/00
被引用回数：90 パーセンタイル：96.13(Polymer Science)ポリエチレンフィルムへのアクリル酸のグラフト重合について、照射雰囲気、照射後の放置温度時間、モル塩および二塩化エチレンの添加とグラフト挙動の関係を検討した。照射を空気中で行った場合、グラフト速度と最終到達グラフト率が、窒素中照射よりも高くなることが認められたが、空気中照射ではポリエチレンの主鎖切断が生じモノマーの拡散が容易になるためと推察した。このことは、ゲル分率およびキシレンでの膨潤度測定によって示唆された。照射フィルムの放置時間依存性では、主として捕捉ラジカルの減衰からグラフト挙動を説明し得ることを明らかにした。モノマー溶液にモール塩を添加することにより、グラフト速度は若干低下するが、モノマーの単独重合が完全に阻止されること、また二塩化エチレン添加によりグラフト速度が高くなることなどを明らかにした。
藤村 卓
JAERI-M 8082, 117 Pages, 1979/02
ポリエチレンにおける放射線照射効果を明らかにする為に、77
Kで照射したポリエチレンおよびそのモデル化合物に生ずるラジカルの性質・挙動を、電子スピン共鳴法を用いて研究した。まず二つのラジカルが極めて近接した場所に生成するラジカル対の構造を、延伸ポリエチレンおよびn-アイコサン単結晶において決定した。ポリエテレンにおいては分子内ラジカル対が、n-アイコサンにおいては分子間ラジカル対が見い出された。これらのラジカル対はその構造からそれぞれポリエチレンにおける二重結合・架橋の先駆体と考えられる。次にポリエチレンに生ずるラジカルそのものの昇温による減衰挙動および存在領域について調べた。その結果低温におけるアルキルラジカルの減衰反応にはラジカルーラジカル間の距離が大きな要因となることが判った。また、アルキルラジカルが二重結合と反応して生成するとされているアリルラジカルがポリエチレンの結晶・非晶の両領域に存在することが明らかとなった。
瀬口 忠男; 田村 直幸
J.Phys.Chem., 77(1), p.40 - 44, 1973/01
ポリエチレンに照射して生成するアルキルラジカルの減衰の機構をESRで研究した。ポリエチレンの結晶領域におけるラジカルの減衰は結晶の大きさと密接な関係があることがわかった。結晶内のアルキルラジカルは水素原子を引き抜いて移動する。減衰の律速は結晶内の移動速度であり、拡散の理論でよく説明できることがわかった。アルキルラジカルの拡散定数は3.0
10
cm
/secと求められた。またラジカルの移動は分子内よりは分子間で起っていると推定される。拡散(移動)の活性化エネルギーは18kcal/moleであった。
